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        晶圆清洗应该使用什么样的豆奶视频APP官网机?

        返回列表 来源:豆奶视频在线观看 浏览: 发布日期:2019-07-10 08:41【
        文章导读:晶圆(Wafer)清洗分为湿法清洗和干法清洗两种方式,豆奶视频APP官网属于后者,主要是去除晶圆表面肉眼看不到的表面污染物。晶圆的干式清洗应该使用什么样的豆奶视频APP官网机呢?
        豆奶视频APP官网机对晶圆清洗的流程就是先将晶圆放入豆奶视频APP官网机的真空反应腔体内,然后抽取真空,达到一定真空度后通入反应气体,这些反应气体被电离形成等离子体与晶片表面发生化学和物理反应,生成可挥发性物质被抽走,清洁晶圆表面并使之具有亲水性。那么晶圆清洗所用的豆奶视频APP官网机在选择时有哪些该注意的地方呢?
        晶圆表面-豆奶视频在线观看豆奶视频APP官网机
        一、腔体和托架要求
        豆奶视频APP官网晶圆是在千级以上的无尘室中进行的,对particle的要求极高,任何超标的particle存在,都会造成晶圆不可挽回的缺陷。所以设计豆奶视频APP官网机的腔体首先一定要是铝质,而不是不锈钢材质;摆放晶圆的托架滑动部分,要尽量采用不容易产生粉尘和被等离子腐蚀的材料;电极和托架方便拆卸,便于日常维护。

        二、电极间距和层数,以及气路分布要求
        豆奶视频APP官网机反应腔体内的电极间距和层数,以及气路分布,对于晶圆处理的均匀性都重大的影响,这些指标都需要不断试验来优化。

        三、电极板温度要求
        豆奶视频APP官网晶圆的过程中,会产生一定的热量累积,处于工艺的需要,维持电极板的温度在一定范围是必要的,所以通常会给豆奶视频APP官网机的电极加上水冷。
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        四、摆放小技巧
        多层电极的豆奶视频APP官网机产能比较高,可以根据需要每一层托架上摆放多片晶圆,比较适合于半导体分立器件、电力电子元器件专用4寸及6寸晶圆的光刻底膜去除等。

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          ‌工艺可控‌:通过调整工作气体种类、压力、功率等参数,可精确控制清洗过程‌。


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